废气处理设备需要定期清理！

废气处理设备需要定期清理的有以下四大原因：

原因一、 因为废气处理设备的管道内温度降低，湿度过高，水蒸气凝结，会使粉尘容易黏附。影响设备功能运转和老化。

原因二、 由于漏风或个别部件阻力增大，造成某些废气处理设备管段风速减小。

原因三、因为废气处理设备排气罩吸入的空气中的含尘浓度过高，所以废气处理设备需要定期清理。

原因四、 废气处理设备系统的水平管段过长，或弯管曲率半径过小。如果不定时清理的话，影响废气处理。

综上所述，定期清理废气处理设备不仅可以使设备正常运转，还可以延长设备寿命。

另外除了需要定时清理废气处理设备还需要加强废气处理设备的检修和加强废气处理设备的日常维护。检修人员应每月全面检查一次所有废气处理设备设施，根据实际情况决定检修的内容、时间、要求及方法等。日常维护的主要任务是消除设备、管道、排气罩;清扫孔、观察孔等处的漏风、调节好系统的供液量、风量和风压，排除一切可能产生故障的隐患。

UV氧化废气处理装置原理介绍： 

UV氧化废气处理装置采用高能紫外线破坏、分解大分子链为小分子链，再利用臭氧和羟基自由基氧化、催化剂进行催化氧化，使有机物变为水和二氧化碳，以达到去除有机物的目的。


（1）破坏裂解 
采用微波超强电磁辐射和穿透力、微波催化燃烧功能对废气进行微波辐射和破坏，使所有有机物废气的分子链完全打断，裂解、改变物质结构，将高分子污染物质，裂解、分解成为低分子无害物质，如水和二氧化碳等。 
采用特制紫外线光管在处理装置内产生高能C波段（253.7nm波段）紫外线，破坏、裂解有机物分子链，改变物质结构，将大分子物质裂解、氧化成为低分子物质或无害物质，如水和二氧化碳等。在高能C波段紫外线作用下，低于1000PPM大分子有机废气，只需0.5s废气中有机物可裂解、氧化成CO2和H2O。 


（2）三重催化氧化 
采用特制紫外线光管在处理装置内产生C波段（185nm波段）紫外线，该波段紫外线对装置内废气中的水汽、氧气照射产生大量的羟基自由基,羟基自由基（OH）因其有极高的氧化电位（2.80EV），其氧化能力极强，可与大多数有机污染物发生快速的链式反应，无选择性地将有害物质氧化成CO2、H2O或矿物盐，无二次污染。 
该波段紫外线光束可分解空气中的氧分子产生游离氧，即活性氧，因游离氧所携正负电子不平衡与氧分子结合，进而产生臭氧。UV+O2→O-+O*(活性氧)O+O2→O3(臭氧),臭氧对有机物具有极强的氧化作用。臭氧对恶臭气体及其它刺激性异味亦有极强的清除效果，作为强氧化剂进行废气氧化, 裂解恶臭气体分子键，破坏细菌的核酸（DNA），再通过臭氧进行氧化反应，彻底达到脱臭及杀灭细菌的目的。在正常工作下单套185nm波段紫外线光可产生120ppm臭氧，在此臭氧强氧化作用下，对低于1000ppm浓度有机废气只需0.5S左右的时间可氧化成水和二氧化碳。